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    ICP等離子刻蝕機 干法等離子刻蝕設備

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-刻蝕設備-反應離子刻蝕機

    產品品牌

    超邁光電

    發(fā)貨期限:

    60天天

    庫       存:

    5

    產       地:

    中國-四川省

    數       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌:超邁光電

    型號:

    所屬系列:半導體加工設備-刻蝕設備-反應離子刻蝕機

    反應離子刻蝕機主要用于介質薄膜干法刻蝕,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
    1.氣體種類:O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

    2.基片尺寸:zui大支持8英寸,并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

    3.射頻電源     ICP電源:13.56MHz,1400W; 偏壓電源:13.56MHz,800W

    4.工藝溫度:10℃到80℃可控

    5.傳送模式:自動Loadlock傳送系統(tǒng)

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