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晶圓刻蝕機（High Speed Etching）

主要功能：本設(shè)備主要采用機械臂搬運方式，通過對硅片腐蝕、拋動、旋轉(zhuǎn)、溢流漂洗等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的腐蝕清洗效果。

l 設(shè)備名稱：晶圓刻蝕機

l 設(shè)備型號：R-AWB300

l 制作數(shù)量：1臺

l 整機尺寸(參考)：1500mm（L）×1500mm(W)×2400mm(H)；以最終設(shè)計尺寸為準。

安裝尺寸：2000mm（L）×2000mm(W)×2600mm(H)；

l 產(chǎn)品尺寸：12寸

l 節(jié)拍：節(jié)拍可調(diào)根據(jù)實際工藝時間而定
l 化學品：HF HNO3 CH3COOH 混合液

l 轉(zhuǎn)移時間：酸槽到水槽轉(zhuǎn)移時間少于3秒；

l 設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;

l 最大產(chǎn)量：根據(jù)工藝確認

l 每批最大處理量：20片；

l 節(jié)拍：具體時間由客戶工藝人員依經(jīng)驗設(shè)定；

l 單槽清洗量：max：12＂：10片/2盒

l 處理最大重量：25kg；

l 操作形式：全自動兼容手動

刻蝕機

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